手机版 |
产品分类 |
半导体行业专用仪器
OAI Model 212紫外光刻机
OAI Model 800E紫外光刻机
OAI掩膜光刻机Model 6000
Model 6020S紫外光刻机
URE-2000/35A型紫外单面光刻机
URE-2000B型紫外单面光刻机
ZEP520A电子束光刻胶
AZ 1500系列i线光刻胶
德国ALLRESIST导电胶AR-PC5090和AR-PC5091
英国EM SML Resist电子束光刻胶
光学仪器及设备
海德堡μMLA桌面无掩模光刻机
OAI UV Led光源
URE-2000/35AL型紫外单面光刻机
URE-2000/30型紫外单面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
URE-2000S/25S型双面光刻机
URE-2000S/A8型紫外双面光刻机
URE-2000S/A型紫外双面光刻机
URE-2000S/B型紫外双面光刻机
其他
美国NanoArch陶瓷树脂精密3D打印机MicroArch S240
日立Hitachi离子溅射仪MC1000
英国Nanomagnetics振动样品磁强计VSM
英国HHV溅射镀膜仪BT150,BT300
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统SSDR 150
法国Alyxan高分辨质子传递反应质谱PTR-FTICR MS
德国Sentech光伏测量仪MDPspot
德国Sentech光伏测量仪MDPmap
德国Sentech光伏测量仪器MDPpro
MDPinlinescan在线寿命和电阻率逐行扫描仪
制样/消解设备
NIE-4000离子束刻蚀系统
牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
美TED Pella高分辨离子溅射仪208HR
美TED PELLA自动离子溅射仪108AUTO
PDC-002美国Harrick扩展型等离子清洗机
PDC-32G-2美国Harrick基本型等离子清洗机
德国Diener等离子清洗机Nano
德国Diener等离子清洗机Zepto
德国Diemer等离子清洗机Femto
德国Diener等离子清洗机
分子生物学仪器
IZON qEV尺寸排阻柱
德国Kruss液滴形状分析DSA25
等离体共振分析仪MP-SPR Navi 220A
Micro Pulser电穿孔仪
英国Cleaver高分辨率垂直电泳系统CSQ20
瑞士罗氏Roche全自动核酸纯化仪MagNA
英国CLEAVER水平电泳系统Horizontal Gel
台式钙流检测工作站FlexStation 3
美国Molecular光吸收型酶标仪SpectraMax 190
美国Sciex遗传分析系统GenomeLab GeXP
清洗/消毒设备
美国必能信Branson台式超声波清洗机CPX1800-8800系列
美国Uvitron全功能紫外面光源Intelli-RAY 400W
紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
英国Glovebox学术手套箱Academic
英国Glovebox真空室手套箱
PDC-MG美国Harrich高集成度等离子清洗机
美国Uvitron紫外面光源INTELLI-RAY 400W
英国AMBA曝光灯AM7977X,AM11353X(AM7000)
SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,
P-Laser激光清洗系统
光谱检测分析仪
曰立Hitachi塞曼原子吸收光谱仪ZA3000
德国neaspec纳米傅里叶红外光谱仪nano-FTIR
美Thorlabs傅立叶红外光谱仪OCS201C,OCS202C,OCS203
德国Bruker ALPHA II FTIR傅立叶变换近红外光谱仪
德国Bruker FT-NIR光谱仪Tango,MPA,Matrix-I
BRAVO手持式拉曼光谱仪
日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
Dimension FastScan德国BRUKER原子力显微镜AFM
比表面积测定仪
英国MML纳米压痕仪NanoTest Vantage
Kla纳米压痕仪G200,G200X,iMicro
接触角测定仪JY-PHa
德国KRUSS标准型接触角测量仪DSA25
100标准型接触角测量仪/Contact angle measuring dev
100S接触角测量仪
德国Mecwins扫描式激光分析仪SCALA
色谱仪
法SEBIA全自动毛细管电泳仪Capillarys 3 OCTA
LTQ Orbitrap XL ETD液质联用系统
赛默飞Themo Scientific液相色谱系统Vanquish UHPLC
集成型毛细管离子色谱ICS-40
模块化气相色谱仪TRACE 1300
赛默飞多功能离子色谱ICS-5000
X射线仪器
日本Rigaku智能多功能X射线衍射仪Smartlab SE
日本理学XRD X射线多晶衍射仪SmartLab
日本理学台式XRD X射线衍射仪Miniflex 600
德国YXLON高分辨率X射线检测设备-平板探测器
临床检验仪器设备
美国PerkinElmer多功能液闪/发光分析仪MicroBeta
Molecular读板机SpectraMax iD5
无损检测/无损探伤仪器
美国SONIX超声波扫描显微镜ECHO-VS, ECHO Pro
英国AML邦定机AWB 04 & 08 Platform
生物工程设备
DSA100德Kruss液滴形状分析仪
瑞士Cytosurge注入器iyFluidFM BOT
微生物检测仪器
新西兰IZON外泌体分离鉴定系统qNano
Thermo Scientific微生物培养箱Precision
气体检测仪
日本A&D粒子计数器(粒度计)SV-1A
成像系统
ImageXpress Pico自动细胞成像
质谱检测分析仪
TSQ Fort三重四极杆质谱仪
磁学测量仪器
美Quantum Design多铁材料磁电测量系统Super-ME-II
激光粒度仪
美SD粒子碰撞噪声检测仪4511A、4511L、4511M4、4511M6
波谱仪器
英国Oxford实验室用智能核磁共振波谱仪Pulsar
细胞生物学仪器
美国Bd单细胞分析系统Rhapsody TM
联系方式 |
产品系列
μMLA桌面无掩模光刻机
桌面型光刻机μMLA技术参数
直写模式I* | 直写模式II* | |
写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式) | ||
*小结构尺寸 [μm] | 0.6 | 1 |
*小线宽/线隙 [半宽, μm] | 0.8 | 1.5 |
第二层对准 大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm] | 500 | 500 |
第二层对准 大于 50 x 50 mm2 [3σ, nm] | 1000 | 1000 |
直写性能光栅扫描曝光模式 | ||
线宽变代 [3σ, nm] | 200 | 300 |
直写速率 MAX [mm2/min] | 10 | 30 |
可选“可变分辨率光栅扫描曝光模块”的写入速度(UMVAR), 适用于不同*小结构尺寸。 | 10 mm2/min at 0.6 μm | 30 mm2/min at 1 μm |
20 mm2/min at 1 μm | 60 mm2/min at 2 μm | |
25 mm2/min at 2 μm | 100 mm2/min at 4 μm | |
矢量曝光模式的直写写性能 | ||
矢量模式下的地址网格 [nm] | 20 | 20 |
边缘粗糙度 [3σ, nm] | 30 | 50 |
线宽变化 [3σ, nm] | 70 | 80 |
线性直写速率MAX | 200 mm/s | 200 mm/s |
系统参数 | ||
衬底尺寸MAX | 5″ x 5″ | 5″ x 5″ |
*小衬底尺寸 | 5 mm x 5 mm | 5 mm x 5 mm |
基板厚度 | 0.1 to 12 mm | 0.1 to 12 mm |
光栅扫描模块 | 矢量曝光模块 | |
光源 | LED; 390 nm or 365 nm | Laser; 405 nm and/or 375 nm |
系统尺寸(光刻单元)
μMLA | Width | Depth | Height | Weight |
主机 | 630 mm (25″) | 800 mm (31.5″) | 530mm (21″) | 100 kg (220 lbs) |
可选配防振表 | 1400mm (55″) | 700 mm (28″) | 750 mm (30″) | 350 kg (770 lbs) |
无掩模光刻机于2015年**推出。从那时起,先进的无掩膜技术已经确立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置设置精确到您的需要与光栅扫描和矢量扫描模式(或两者)和可变分辨率的记录磁头。
在许多应用中,传统的光掩膜已经成为过去,因为你的设计文件是通过二维空间光直接暴露在电阻涂层晶圆上的调制器(SLM)。μMLA是MLA100的直接继承者,是“小”MLA150,是我们先进的无掩模对准器的兄弟,它是许多多用户设备、纳米制造实验室和国家研究所中值得信赖、不可或缺的主力。
在我们全新的入门级系统μMLA的开发过程中,我们引入了诸如可变解决方案等新特性,并创建了一个灵活且高度可定制的桌面系统。当然,小样本处理很简单。μMLA功能保留以前桌面系统的优点,同时提供更多的选择和更高的性能。
应用包括研究和发展的领域,如MEMS,微流体,微光学和所有其他领域,负担得起,紧凑,和强大的模式基因rator微结构是必需的。
APPLICATIONS 应用程序
微光学:二元衍射光学元件。设计由1个μm2正方形组成。
μMLA提供了一个标准的灰度模式,这可以制造低创造的微镜头。防蚀胶:15 μm厚AZ4562。节距30 μm,曲率半径16 μm。
CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA
两种曝光模式
μMLA可以让你选择光栅扫描曝光模式和矢量模式,或者甚至在同一个系统上运行曝光模式! 光栅扫描曝光模式快速,并提供良好的图像质量和保真度,而写入时间独立于结构尺寸或图案密度。矢量扫描模式可以帮助暴露由曲线组成的设计,当需要平滑的轮廓。虽然矢量模式产生的图像质量与光栅扫描曝光模式相似,但它不能达到同样的写入速度,特别是对于高填充系数的模式。
A Choice of Wavelengths 波长的选择
因此,你可以在一个系统上使用多达三个不同波长(LED和/或激光二极管)。
Variable Resolution 可变分辨率
我们新开发的可变分辨率函数允许您为一个部分的编写模式选择三种不同的分辨率。只需在软件菜单中选择解决方案,并为您的应用程序优化参数。
The Surface at One Glance
可选的概述相机提供了一种简单的方法来定位对准标记或其他特征感兴趣的基板上。
Small Sample Handling 小样本处理
小样品处理是直接与μMLA: 光学自动对焦选项允许准确曝光,直到样品的边缘。