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半导体行业专用仪器
OAI Model 212紫外光刻机
OAI Model 800E紫外光刻机
OAI掩膜光刻机Model 6000
Model 6020S紫外光刻机
URE-2000/35A型紫外单面光刻机
URE-2000B型紫外单面光刻机
ZEP520A电子束光刻胶
AZ 1500系列i线光刻胶
德国ALLRESIST导电胶AR-PC5090和AR-PC5091
英国EM SML Resist电子束光刻胶
光学仪器及设备
海德堡μMLA桌面无掩模光刻机
OAI UV Led光源
URE-2000/35AL型紫外单面光刻机
URE-2000/30型紫外单面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
URE-2000S/25S型双面光刻机
URE-2000S/A8型紫外双面光刻机
URE-2000S/A型紫外双面光刻机
URE-2000S/B型紫外双面光刻机
其他
美国NanoArch陶瓷树脂精密3D打印机MicroArch S240
日立Hitachi离子溅射仪MC1000
英国Nanomagnetics振动样品磁强计VSM
英国HHV溅射镀膜仪BT150,BT300
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统SSDR 150
法国Alyxan高分辨质子传递反应质谱PTR-FTICR MS
德国Sentech光伏测量仪MDPspot
德国Sentech光伏测量仪MDPmap
德国Sentech光伏测量仪器MDPpro
MDPinlinescan在线寿命和电阻率逐行扫描仪
制样/消解设备
NIE-4000离子束刻蚀系统
牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
美TED Pella高分辨离子溅射仪208HR
美TED PELLA自动离子溅射仪108AUTO
PDC-002美国Harrick扩展型等离子清洗机
PDC-32G-2美国Harrick基本型等离子清洗机
德国Diener等离子清洗机Nano
德国Diener等离子清洗机Zepto
德国Diemer等离子清洗机Femto
德国Diener等离子清洗机
分子生物学仪器
IZON qEV尺寸排阻柱
德国Kruss液滴形状分析DSA25
等离体共振分析仪MP-SPR Navi 220A
Micro Pulser电穿孔仪
英国Cleaver高分辨率垂直电泳系统CSQ20
瑞士罗氏Roche全自动核酸纯化仪MagNA
英国CLEAVER水平电泳系统Horizontal Gel
台式钙流检测工作站FlexStation 3
美国Molecular光吸收型酶标仪SpectraMax 190
美国Sciex遗传分析系统GenomeLab GeXP
清洗/消毒设备
美国必能信Branson台式超声波清洗机CPX1800-8800系列
美国Uvitron全功能紫外面光源Intelli-RAY 400W
紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
英国Glovebox学术手套箱Academic
英国Glovebox真空室手套箱
PDC-MG美国Harrich高集成度等离子清洗机
美国Uvitron紫外面光源INTELLI-RAY 400W
英国AMBA曝光灯AM7977X,AM11353X(AM7000)
SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,
P-Laser激光清洗系统
光谱检测分析仪
曰立Hitachi塞曼原子吸收光谱仪ZA3000
德国neaspec纳米傅里叶红外光谱仪nano-FTIR
美Thorlabs傅立叶红外光谱仪OCS201C,OCS202C,OCS203
德国Bruker ALPHA II FTIR傅立叶变换近红外光谱仪
德国Bruker FT-NIR光谱仪Tango,MPA,Matrix-I
BRAVO手持式拉曼光谱仪
日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
Dimension FastScan德国BRUKER原子力显微镜AFM
比表面积测定仪
英国MML纳米压痕仪NanoTest Vantage
Kla纳米压痕仪G200,G200X,iMicro
接触角测定仪JY-PHa
德国KRUSS标准型接触角测量仪DSA25
100标准型接触角测量仪/Contact angle measuring dev
100S接触角测量仪
德国Mecwins扫描式激光分析仪SCALA
色谱仪
法SEBIA全自动毛细管电泳仪Capillarys 3 OCTA
LTQ Orbitrap XL ETD液质联用系统
赛默飞Themo Scientific液相色谱系统Vanquish UHPLC
集成型毛细管离子色谱ICS-40
模块化气相色谱仪TRACE 1300
赛默飞多功能离子色谱ICS-5000
X射线仪器
日本Rigaku智能多功能X射线衍射仪Smartlab SE
日本理学XRD X射线多晶衍射仪SmartLab
日本理学台式XRD X射线衍射仪Miniflex 600
德国YXLON高分辨率X射线检测设备-平板探测器
临床检验仪器设备
美国PerkinElmer多功能液闪/发光分析仪MicroBeta
Molecular读板机SpectraMax iD5
无损检测/无损探伤仪器
美国SONIX超声波扫描显微镜ECHO-VS, ECHO Pro
英国AML邦定机AWB 04 & 08 Platform
生物工程设备
DSA100德Kruss液滴形状分析仪
瑞士Cytosurge注入器iyFluidFM BOT
微生物检测仪器
新西兰IZON外泌体分离鉴定系统qNano
Thermo Scientific微生物培养箱Precision
激光粒度仪
美SD粒子碰撞噪声检测仪4511A、4511L、4511M4、4511M6
波谱仪器
英国Oxford实验室用智能核磁共振波谱仪Pulsar
细胞生物学仪器
美国Bd单细胞分析系统Rhapsody TM
气体检测仪
日本A&D粒子计数器(粒度计)SV-1A
成像系统
ImageXpress Pico自动细胞成像
质谱检测分析仪
TSQ Fort三重四极杆质谱仪
磁学测量仪器
美Quantum Design多铁材料磁电测量系统Super-ME-II
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产品系列
日本JEOL截面样品制备装置IB-19520CCP
IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却,能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下,也能将样品快速冷却、恢复到室温,并且可以拆卸。配有传送机构,在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。
产品规格:
离子加速电压 | 2 ~ 8 kV |
离子束直径 | 500 um( FWHM) |
研磨速率 | 500 um(两小时的平均值、8 kV、硅材质换算、突出量:100 um) |
样品架冷却达到的温度 | -120 ℃ |
样品冷却持续时间 | 8小时以上 |
制冷箱容量 | 约1升 |
承载样品的**尺寸 | 11mm(长) × 8mm(宽)× 3mm(厚) |
样品台移动范围 | X轴:±6mm、Y轴:±2.5mm |
固定样品方法 | 夹式 |
样品加工摆角 | ±30° |
加工观察用相机的倍率 | 约20~100倍(6.5寸显示器上) 机械泵: 150 mm(宽) × 427 mm(长) × 230 mm(高)、约16 kg |
空气隔离系统 | 转移舱 |
空气隔离法 | 将舱内设定成氩气气氛,盖上转移舱盖子,将样品封在舱里。 |
操作方法 | 触控屏、6.5寸显示器 |
使用气体 | 氩气(用质量流量控制器控制流量) |
压力测试 | 潘宁真空计 |
主抽真空系统 | 涡轮分子泵 |
辅助抽真空系统 | 机械泵 |
尺寸、重量 | 主机:约670mm (宽) × 720mm(长) × 530mm(高)、约73kg 机械泵:约150 mm (宽) × 430 mm(长) × 230 mm(高)、约16kg |
选配件 | 大型旋转样品架(IB‐11550LSRH)、(IB‐11550LSRH) 基座样品架 (IB‐11560MBSH) 大型样品架(IB-11570LSH) 喷碳样品架(IB-12510CCH) |
电源 | 单相100~120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA |
接地线 | 独立地线(100 Ω以下) |
氩气 | 使用压力:0.15±0.05 MPa(1.0 ~ 2.0 kg/cm2) 纯度99.9999%以上(氩气、气瓶及调压器由客户自备) 金属配管连接口:JISB0203 RC1/4 |
室温 | 15~25 ℃ |
湿度 | 60%以下 |
产品特点:
★ 冷却的效果 样品:镀锌钢板
· 可提供500μm/h(8KV/2小时的平均值)的研磨速率。
· ※ 通常加工(无冷却)时,铁和锌的接合面上能够观察到间隙,而冷却加工时则没有间隙
·★ 使用温度控制系统(选配件)冷却 样品:硅晶片接合面
· ※ 常规加工由于热损伤造成粘合剂变形,出现了很大的间隙。 -150 ℃时,冷却过度,能观察到胶粘剂和硅晶片研磨面的接合面上出现了间隙,但通过温度控制冷却则没有间隙。
·★ 合理利用间歇加工、冷却功能和温度控制冷却功能可支持各种样品的制备
·
· ★ 进程监控功能
· 截面加工状态可通过CCD相机实时监控,倍率还可调整。
·★ 防止充放电的喷镀功能
· 备有离子束溅射功能(选配项)
可以喷涂颗粒感良好的薄涂层。
*适合于象EBSD等需要花样识别等情况。
· ★ 平面离子减薄样品架
· 以小角度的离子束低角度照射样品,达到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常适合于选择性蚀刻。
· ★ 截面样品制备单元
· 安装在平面离子减薄样品架上使用。该单元可用于在旋转样品的同时进行离子束加工。
可以用来制备象多孔质材料、粉末、纤维等容易出现加工条纹的样品的截面。