芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机P-200S Pro ALD

技术参数

衬底尺寸和类型：

。50 – 200 mm /单片

。156 mm x 156 mm 太阳能硅片

。150 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度：50 - 500 °C ， 可选更高温度

基片传送选件 ：

。气动升降（手动装载）

。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现

。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准： SEMI S2 认证（认证中）

前驱体：

。 液态， 固态， 气态， 臭氧源， 等离子体（*多4路气体）：

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

。6根独立源管线，*多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）

重量 ：790 kg

尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件 ：集群工具， PICOFLOW™ 扩散增强器， 集成椭偏仪， QCM， RGA， N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准 ：。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，

。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：

- 不均匀性

- 颗粒物含量

- 重金属污染

- 电学性能

一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA™。