认证信息
高级会员 第 2 年
名 称:深圳市蓝星宇电子科技有限公司认 证:工商信息已核实
访问量:293003
手机网站
扫一扫,手机访问更轻松
产品分类
公司品牌
品牌传达企业理念
产品简介
德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X
重新定义精密加工。
全新的量子X是世界上基于双光子灰度光刻(2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机的**性能和纳米筛网首创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
Quantum X软件实时控制和监控打印作业,并执行自动系统校准。用户-机器交互由专用触摸屏或远程控制界面支持。
关键特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和**的形状精度设计自由度,亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程,例如校准,
作业执行和监视
广泛的基材树脂组合,通过作业队列触摸屏和远程控制界面,连续执行各种打印作业
TechnicalSpecifications | |
Printing technology: | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size: | 160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution: | 400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps: | 10 nm, quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra: | ≤ 10 nm* |
Scan speed: | ≤ 250 mm/s* |
Area printing speed: | 3 mm2/h typical for diffractive optical elements |
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 德国Moeller光学动/静态接触角仪/界面测量仪SL150
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- N-TEC全自动真空压合机BW228-4FA
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- 美国Nano-master原子层沉积机NLD-4000
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机
- 日本JEOL离子切片仪EM-09100IS
- 日本JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z200FSC
- 芬兰PICOSUN原子层沉积机P-300S Pro ALD
- N-TEC全自动晶圆清洗机BW 232FA