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半导体行业专用仪器
OAI Model 212紫外光刻机
OAI Model 800E紫外光刻机
OAI掩膜光刻机Model 6000
Model 6020S紫外光刻机
URE-2000/35A型紫外单面光刻机
URE-2000B型紫外单面光刻机
ZEP520A电子束光刻胶
AZ 1500系列i线光刻胶
德国ALLRESIST导电胶AR-PC5090和AR-PC5091
英国EM SML Resist电子束光刻胶
光学仪器及设备
海德堡μMLA桌面无掩模光刻机
OAI UV Led光源
URE-2000/35AL型紫外单面光刻机
URE-2000/30型紫外单面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
URE-2000S/25S型双面光刻机
URE-2000S/A8型紫外双面光刻机
URE-2000S/A型紫外双面光刻机
URE-2000S/B型紫外双面光刻机
其他
美国NanoArch陶瓷树脂精密3D打印机MicroArch S240
日立Hitachi离子溅射仪MC1000
英国Nanomagnetics振动样品磁强计VSM
英国HHV溅射镀膜仪BT150,BT300
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统SSDR 150
法国Alyxan高分辨质子传递反应质谱PTR-FTICR MS
德国Sentech光伏测量仪MDPspot
德国Sentech光伏测量仪MDPmap
德国Sentech光伏测量仪器MDPpro
MDPinlinescan在线寿命和电阻率逐行扫描仪
制样/消解设备
NIE-4000离子束刻蚀系统
牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
美TED Pella高分辨离子溅射仪208HR
美TED PELLA自动离子溅射仪108AUTO
PDC-002美国Harrick扩展型等离子清洗机
PDC-32G-2美国Harrick基本型等离子清洗机
德国Diener等离子清洗机Nano
德国Diener等离子清洗机Zepto
德国Diemer等离子清洗机Femto
德国Diener等离子清洗机
分子生物学仪器
IZON qEV尺寸排阻柱
德国Kruss液滴形状分析DSA25
等离体共振分析仪MP-SPR Navi 220A
Micro Pulser电穿孔仪
英国Cleaver高分辨率垂直电泳系统CSQ20
瑞士罗氏Roche全自动核酸纯化仪MagNA
英国CLEAVER水平电泳系统Horizontal Gel
台式钙流检测工作站FlexStation 3
美国Molecular光吸收型酶标仪SpectraMax 190
美国Sciex遗传分析系统GenomeLab GeXP
清洗/消毒设备
美国必能信Branson台式超声波清洗机CPX1800-8800系列
美国Uvitron全功能紫外面光源Intelli-RAY 400W
紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
英国Glovebox学术手套箱Academic
英国Glovebox真空室手套箱
PDC-MG美国Harrich高集成度等离子清洗机
美国Uvitron紫外面光源INTELLI-RAY 400W
英国AMBA曝光灯AM7977X,AM11353X(AM7000)
SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,
P-Laser激光清洗系统
光谱检测分析仪
曰立Hitachi塞曼原子吸收光谱仪ZA3000
德国neaspec纳米傅里叶红外光谱仪nano-FTIR
美Thorlabs傅立叶红外光谱仪OCS201C,OCS202C,OCS203
德国Bruker ALPHA II FTIR傅立叶变换近红外光谱仪
德国Bruker FT-NIR光谱仪Tango,MPA,Matrix-I
BRAVO手持式拉曼光谱仪
日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
Dimension FastScan德国BRUKER原子力显微镜AFM
比表面积测定仪
英国MML纳米压痕仪NanoTest Vantage
Kla纳米压痕仪G200,G200X,iMicro
接触角测定仪JY-PHa
德国KRUSS标准型接触角测量仪DSA25
100标准型接触角测量仪/Contact angle measuring dev
100S接触角测量仪
德国Mecwins扫描式激光分析仪SCALA
色谱仪
法SEBIA全自动毛细管电泳仪Capillarys 3 OCTA
LTQ Orbitrap XL ETD液质联用系统
赛默飞Themo Scientific液相色谱系统Vanquish UHPLC
集成型毛细管离子色谱ICS-40
模块化气相色谱仪TRACE 1300
赛默飞多功能离子色谱ICS-5000
X射线仪器
日本Rigaku智能多功能X射线衍射仪Smartlab SE
日本理学XRD X射线多晶衍射仪SmartLab
日本理学台式XRD X射线衍射仪Miniflex 600
德国YXLON高分辨率X射线检测设备-平板探测器
无损检测/无损探伤仪器
美国SONIX超声波扫描显微镜ECHO-VS, ECHO Pro
英国AML邦定机AWB 04 & 08 Platform
生物工程设备
DSA100德Kruss液滴形状分析仪
瑞士Cytosurge注入器iyFluidFM BOT
微生物检测仪器
新西兰IZON外泌体分离鉴定系统qNano
Thermo Scientific微生物培养箱Precision
临床检验仪器设备
美国PerkinElmer多功能液闪/发光分析仪MicroBeta
Molecular读板机SpectraMax iD5
激光粒度仪
美SD粒子碰撞噪声检测仪4511A、4511L、4511M4、4511M6
波谱仪器
英国Oxford实验室用智能核磁共振波谱仪Pulsar
细胞生物学仪器
美国Bd单细胞分析系统Rhapsody TM
气体检测仪
日本A&D粒子计数器(粒度计)SV-1A
成像系统
ImageXpress Pico自动细胞成像
质谱检测分析仪
TSQ Fort三重四极杆质谱仪
磁学测量仪器
美Quantum Design多铁材料磁电测量系统Super-ME-II
联系方式 |
产品系列
紫外UV清洗机 LXY-PL17-110 |
详细介绍 |
紫外臭氧清洗机 型号Model:PL17-110 应用Objects 光清洗改质实验装置UV/O3 cleaning and modifying experiments 尺寸Dimensions: 约350W*350D*380H(mm) 电源Power supply: 220V 50/60Hz 功率Power consumption :140W 照射面积Irradiation area: 170*170MM UV 能量Uv intensity: 25-35mW/cm2 灯总功率Total lamp wat.: 110W 灯型号Lamp model 日本SEN 原装进口:SUV110GS-36 灯数量Number of lamps :1PCS 定制电话:廖生 特点: 本装置是为了运用短波长紫外线254NM 和185NM 双波段进行表面处理、干式清洗的效果而设计制作的试验机。所使用的光源为日本原装进口SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。 本机的正面为单开门,试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度,照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。 同时我们还有例如200mm 角300mm 角面光源,两面照射,抽出式试验台,旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。 构成和构造: 光源到试验台之间**有80mm 距离,因此无论是玻璃/胶片型还是立体物品都可以处理。 照射距离可使用手动升降机调节高度。 在门上设有观察窗,可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。 紫外光UV清洗原理 紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。 其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,彻底清除物体表面的污染物。 应 用 紫外线UV光清洗技术的应用范围: 1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理; 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂 3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成; 4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗 5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以极大的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力; 6。印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量。 7。大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中,硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗,可以提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生 9。在光盘的生产中,沉积各种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量。 10。磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果好。 11。石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。 12。在IC卡表面插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量。 13。彩色滤光片生产中,光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。 14。敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层,产品质量显著提高 15。光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好。 16。树脂透镜光照后,能加强与防反射板的粘贴性。 |