美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000

产品特点：

SWC-4000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了**的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：

。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

。Ge， GaAs以及InP晶圆片清洗

。CMP处理后的晶圆片清洗

。晶圆框架上的切粒芯片清洗

。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

。带保护膜的分划版清洗

。掩模版空白部位或接触部位清洗

。X射线及极紫外掩模版清洗

。光学镜头清洗

。ITO涂覆的显示面板清洗

。兆声辅助的剥离工艺

特点：

。支持12"直径的圆片或9"x9"方片

。独立系统

。无损兆声，试剂，毛刷清洗及旋转甩干

。微处理机自动控制

。化学试剂滴胶单元

。溶剂与酸分离排废

。热氮

。30"D x 26"W 的占地面积

选配项：

。掩模板或晶圆片夹具

。臭氧清洗

。PVA软毛刷清洗

。高压DI清洗

。氮气离子发生器