手机版 |
产品分类 |
半导体行业专用仪器
OAI Model 212紫外光刻机
OAI Model 800E紫外光刻机
OAI掩膜光刻机Model 6000
Model 6020S紫外光刻机
URE-2000/35A型紫外单面光刻机
URE-2000B型紫外单面光刻机
ZEP520A电子束光刻胶
AZ 1500系列i线光刻胶
德国ALLRESIST导电胶AR-PC5090和AR-PC5091
英国EM SML Resist电子束光刻胶
光学仪器及设备
海德堡μMLA桌面无掩模光刻机
OAI UV Led光源
URE-2000/35AL型紫外单面光刻机
URE-2000/30型紫外单面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
URE-2000S/25S型双面光刻机
URE-2000S/A8型紫外双面光刻机
URE-2000S/A型紫外双面光刻机
URE-2000S/B型紫外双面光刻机
其他
美国NanoArch陶瓷树脂精密3D打印机MicroArch S240
日立Hitachi离子溅射仪MC1000
英国Nanomagnetics振动样品磁强计VSM
英国HHV溅射镀膜仪BT150,BT300
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统SSDR 150
法国Alyxan高分辨质子传递反应质谱PTR-FTICR MS
德国Sentech光伏测量仪MDPspot
德国Sentech光伏测量仪MDPmap
德国Sentech光伏测量仪器MDPpro
MDPinlinescan在线寿命和电阻率逐行扫描仪
制样/消解设备
NIE-4000离子束刻蚀系统
牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
美TED Pella高分辨离子溅射仪208HR
美TED PELLA自动离子溅射仪108AUTO
PDC-002美国Harrick扩展型等离子清洗机
PDC-32G-2美国Harrick基本型等离子清洗机
德国Diener等离子清洗机Nano
德国Diener等离子清洗机Zepto
德国Diemer等离子清洗机Femto
德国Diener等离子清洗机
分子生物学仪器
IZON qEV尺寸排阻柱
德国Kruss液滴形状分析DSA25
等离体共振分析仪MP-SPR Navi 220A
Micro Pulser电穿孔仪
英国Cleaver高分辨率垂直电泳系统CSQ20
瑞士罗氏Roche全自动核酸纯化仪MagNA
英国CLEAVER水平电泳系统Horizontal Gel
台式钙流检测工作站FlexStation 3
美国Molecular光吸收型酶标仪SpectraMax 190
美国Sciex遗传分析系统GenomeLab GeXP
清洗/消毒设备
美国必能信Branson台式超声波清洗机CPX1800-8800系列
美国Uvitron全功能紫外面光源Intelli-RAY 400W
紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
英国Glovebox学术手套箱Academic
英国Glovebox真空室手套箱
PDC-MG美国Harrich高集成度等离子清洗机
美国Uvitron紫外面光源INTELLI-RAY 400W
英国AMBA曝光灯AM7977X,AM11353X(AM7000)
SUSS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,
P-Laser激光清洗系统
光谱检测分析仪
曰立Hitachi塞曼原子吸收光谱仪ZA3000
德国neaspec纳米傅里叶红外光谱仪nano-FTIR
美Thorlabs傅立叶红外光谱仪OCS201C,OCS202C,OCS203
德国Bruker ALPHA II FTIR傅立叶变换近红外光谱仪
德国Bruker FT-NIR光谱仪Tango,MPA,Matrix-I
BRAVO手持式拉曼光谱仪
日本JEOL X射线荧光光谱仪JSX-1000S
Dimension FastScan德国BRUKER原子力显微镜AFM
比表面积测定仪
英国MML纳米压痕仪NanoTest Vantage
Kla纳米压痕仪G200,G200X,iMicro
接触角测定仪JY-PHa
德国KRUSS标准型接触角测量仪DSA25
100标准型接触角测量仪/Contact angle measuring dev
100S接触角测量仪
德国Mecwins扫描式激光分析仪SCALA
色谱仪
法SEBIA全自动毛细管电泳仪Capillarys 3 OCTA
LTQ Orbitrap XL ETD液质联用系统
赛默飞Themo Scientific液相色谱系统Vanquish UHPLC
集成型毛细管离子色谱ICS-40
模块化气相色谱仪TRACE 1300
赛默飞多功能离子色谱ICS-5000
X射线仪器
日本Rigaku智能多功能X射线衍射仪Smartlab SE
日本理学XRD X射线多晶衍射仪SmartLab
日本理学台式XRD X射线衍射仪Miniflex 600
德国YXLON高分辨率X射线检测设备-平板探测器
临床检验仪器设备
美国PerkinElmer多功能液闪/发光分析仪MicroBeta
Molecular读板机SpectraMax iD5
无损检测/无损探伤仪器
美国SONIX超声波扫描显微镜ECHO-VS, ECHO Pro
英国AML邦定机AWB 04 & 08 Platform
生物工程设备
DSA100德Kruss液滴形状分析仪
瑞士Cytosurge注入器iyFluidFM BOT
微生物检测仪器
新西兰IZON外泌体分离鉴定系统qNano
Thermo Scientific微生物培养箱Precision
细胞生物学仪器
美国Bd单细胞分析系统Rhapsody TM
气体检测仪
日本A&D粒子计数器(粒度计)SV-1A
成像系统
ImageXpress Pico自动细胞成像
质谱检测分析仪
TSQ Fort三重四极杆质谱仪
磁学测量仪器
美Quantum Design多铁材料磁电测量系统Super-ME-II
激光粒度仪
美SD粒子碰撞噪声检测仪4511A、4511L、4511M4、4511M6
波谱仪器
英国Oxford实验室用智能核磁共振波谱仪Pulsar
联系方式 |
产品系列
产品描述
德Eulitha电子束光刻机Phable R100 system
高分辨率,非接触式,接近光刻
PhableR 100系统基于由Eulitha AG开发的专有PHABLE(Photonics Enabler的简称)光刻技术,这使得可以在非接触,邻近光刻系统中印刷高分辨率周期性结构。使用PhableR 100获得的分辨率基本上与DUV投影光刻系统的相同,但没有复杂和昂贵的光学和力学。例如,具有150nm半间距的线性光栅可以用新系统以高均匀性印刷。作为附加的优点,由PhableR 100系统形成的图像的实际上无限的聚焦深度意味着高分辨率图案可以以高均匀性印刷在非平坦基板上,这在光子应用中通常遇到。
PhableR 100系统可以使用工业标准铬玻璃或相移掩模曝光直径高达100mm的基板。掩模和衬底被手动地加载到系统上,并且曝光过程由机载计算机控制。可以使用可从普通供应商获得的标准i线光刻胶,正和负色调。线性或弯曲光栅,具有六边形或正方形对称性的2D光子晶体类型图案可以印刷有小于300nm的特征周期。该系统也可以像接近或接触模式中的标准掩模对准器一样使用以打印微米级结构。目标应用包括光子学研究和开发项目,用于光衍射和光谱的光栅制造,LED上的光提取图案,图案化蓝宝石衬底和滤色器。
好处
。高分辨率低于300nm间距
。全场曝光
。非接触:保护面罩免受损坏和污染
。精确无限的焦深
。适用于非平面基板(如外延晶片)
。高均匀性
。外形对齐功能
。商业化的光刻胶和材料
。常规面罩(Cr-on-glass)
。频率乘法
规格
。分辨率10nm半间距(线性光栅)
。晶圆尺寸高达100mm直径
。掩码格式5“
。照明均匀度<3%
。间距范围300nm - 3μm
。抗蚀剂厚度>1μm
。操作手动加载 - 自动曝光
。控制触摸面板